在蒸發(fā)鍍膜過程中，如采用電阻加熱、電子束加熱等方式使鍍膜材料蒸發(fā)，然后沉積在基底表面。氣體質(zhì)量流量控制器（MFC）用于精確控制真空腔內(nèi)的工藝氣體流量。例如，在鍍鋁膜時(shí)，氬氣常作為保護(hù)氣體和輔助氣體引入。MFC 精確控制氬氣流量，能防止蒸發(fā)的鋁原子在飛行過程中被氧化，確保鋁膜的純度和質(zhì)量。